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CVD型中温管式炉(可以非标设计)

文字:[大][中][小] 2012-1-15  浏览次数:9651

  CVD中温管式炉(单管、双管、卧式、立式、单温区、双温区、三温区)主要应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、渡膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等,设备的控制系统采用原装进口产品,具有安全可靠、操作简单、控温精度高(专家PID控制)、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可通气氛、抽真空等特点。

 

 

CVD中温管式炉主要技术参数表如下:
型号及规格 工作温度(℃) 炉管直径(mm) 温区长度(mm) 温区个数 加热元件 控制温度(℃) 功率(kW) 温度均匀性
CVD-03-30-1
1000
30
300
1
电阻丝
程序控温/±1
2
±3℃
CVD-04-20-2
1000
40
200/200
2
电阻丝
程序控温/±1
3
±3℃
CVD-05-20-3
1000
50
200/200/200
3
电阻丝
程序控温/±1
4.5
±4℃
CVD-06-20-3
1000
60
200/200/200
3
电阻丝
程序控温/±1
4.5
±4℃
CVD-155-25-3
1000
155
250/250/250
3
电阻丝
程序控温/±1
9
±5℃

 

 

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